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離子滲氮爐的工藝特點(diǎn)

作者:admin 發(fā)布日期: 2022-05-27 二維碼分享

普通的離子滲氮爐的工藝需要3~10mbar的氣體壓力才能..等離子與基體的完全接觸。表面有小凹槽或螺紋等復(fù)雜形狀的基片,武漢離子滲氮爐設(shè)備的參數(shù)分布不同,會(huì)引起周圍電場(chǎng)的變化,從而改變?cè)搮^(qū)域的離子濃度和離子轟擊能量。如果采用常規(guī)的等離子滲氮,離子碰撞更容易發(fā)生在等離子鞘層中。


在射頻等離子體設(shè)備的氮化過(guò)程中,等離子體的產(chǎn)生與襯底偏壓的控制是分開的,因此可以分別控制離子能量和襯底表面流量。由于較低的工作氣壓,滲氮效率可以提高。低能DC輝光放電用于產(chǎn)生氮化用的NH自由基。這些高活性自由基用于滲氮。整個(gè)過(guò)程需要外接電源加熱工件,過(guò)程類似氣體滲氮。這個(gè)過(guò)程不僅可以控制表面拓?fù)洌€可以選擇是否形成復(fù)合層??梢钥刂茝?fù)合層的厚度和擴(kuò)散層的深度,而不改變表面結(jié)構(gòu)的特性。如果金屬表面有狹窄的縫隙和孔洞,通過(guò)這種工藝可以很容易地實(shí)現(xiàn)滲氮。


傳統(tǒng)的離子滲氮工藝采用DC或脈沖異常輝光放電,對(duì)滲氮低合金鋼和工具鋼有效,但對(duì)不銹鋼尤其是奧氏體不銹鋼無(wú)效。CrN在高溫滲氮過(guò)程中會(huì)析出,所以金屬表面非常堅(jiān)硬耐磨,但缺點(diǎn)是容易腐蝕。該工藝制備的改性層中含有一種被稱為膨脹奧氏體的富氮層,這種富氮層已被低溫低壓放電技術(shù)成功解決。